十余年高端装备经验
大设备产品系列
专利布局
国内平板显示曝光及配套
量测设备供应商
主要应用于G6 及以上的大尺寸玻璃基板曝光工艺，使用多投影物镜光学系统，具备大视场、高精度等特点，可满足量产线和研发线的各种高精度曝光工艺需求。
高精度
大剂量下高产率
工艺适应性强
独特的气浮传输结构
主要应用于G2.5~G6 LCD、AMOLED、Micro LED 等显示屏的曝光制造，满足量产线和研发线的各种高精度曝光工艺需求。
高精度
低使用成本
独创双曝光系统工艺适应性强
主要应用于显示制造中的TFT、CF、TPOT、COE等工艺制程的TP（Total Pitch）、CS（Center Shift）、CD（Critical Dimension）和OL（Overlay）量测，可支持各世代基板。长寸量测设备又称基板变形检测设备或精密测长机，主要用于长寸TP和CS量测，兼容短寸CD和OL量测；短寸量测设备又称关键尺寸量测设备，主要用于短寸CD和OL量测。
高量测精度
高量测效率
多功能量测
主要应用于OLED G6~G8.6世代高精密掩模版FMM张网工序，具备高精度张网及高效率焊接功能，可实现全制程像素位置精度监控及实时补偿，灵活应对不同产品的工艺需求。
张网精度高
多种照明模式工艺适应性强
上海玻纳刻科技有限公司专注于平板显示等玻璃基板应用的曝光设备、配套装备与核心组件， 依托十余年高端装备研发与产业化经验，为新型显示行业提供高精度、高性能、高可靠的设备整体解决方案与全周期配套服务。
从设备研发、制造交付到技术服务以完整能力守护客户生产效率与长期价值
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