2026年11月4日，以 “显示无处不在・智慧改变视界” 为主题的 2026 世界显示产业创新发展大会在成都空港国际会议中心盛大启幕。作为新型显示产业上游核心配套领域的重要交流平台，大会集中发布了五项突破性成果。上海玻纳刻科技有限公司自主研发的国内首台 G6 大 Mask 投影扫描曝光机入选其中，并在启幕环节正式发布。公司与全球面板、材料、终端产业链伙伴开展技术交流，展示高端显示光刻装备国产化替代的最新产业化成果。
同期举办的新型显示材料与装备生态对接活动上，周总带来题为《持续改进・勇攀高峰 —— 国产大 Mask 曝光机精进之路》的专题演讲。演讲围绕国产大 Mask 曝光机的技术迭代、攻关难点与产业化落地实践展开分享，内容详实、针对性强，引发在场产业链同仁广泛共鸣与热烈讨论，取得了良好的交流对接效果。
